DevaCurl トラベルサイズ STYLING クリーム Touchable 保湿 Definer 対 Ouidad Advanced Climate Control Frizz-Fighting 保湿 マスク
処方内容
処方内容
主要成分
主要成分
メリット
メリット
注意点
注意点
成分を並べて比較
- 水溶剤
- CETEARYL ALCOHOLエモリエント整肌剤、乳化用界面活性剤、乳化安定剤、起泡補助界面活性剤、不透明化剤、洗浄用界面活性剤、粘度調整剤
- グリセリン変性剤、ヘアコンディショニング剤、保湿剤、口腔ケア剤、皮膚保護剤、溶剤、粘度調整剤、賦香剤、香料、保湿整肌剤
- BEHENTRIMONIUM CHLORIDE帯電防止剤、ヘアコンディショニング剤、防腐剤
- PPG-3 BENZYL ETHER MYRISTATEエモリエント整肌剤、可塑剤、溶剤、紫外線吸収剤
- TAPIOCA STARCH粘度調整剤
- LAURETH-4帯電防止剤、乳化用界面活性剤、香料、洗浄用界面活性剤
- AMINOMETHYL PROPANOL緩衝剤
さらに 17 成分
- CETEARETH-20洗浄剤、乳化用界面活性剤、洗浄用界面活性剤
- CETRIMONIUM CHLORIDE抗菌剤、帯電防止剤、乳化用界面活性剤、防腐剤
- Citric Acid緩衝剤、キレート剤、香料、角質除去剤、有効成分、pH調整剤
- Disodium EDTAキレート剤、粘度調整剤、キレート剤、安定剤
- ETHYL MACADAMIATE整肌剤
- Ethylhexylglycerin消臭剤、整肌剤、防腐剤
- ETIDRONIC ACIDキレート剤
- HYDROXYPROPYLTRIMONIUM HYDROLYZED CORN STARCH帯電防止剤、皮膜形成剤、ヘアコンディショニング剤
- ISOPROPYL ALCOHOL消泡剤、溶剤、粘度調整剤、賦香剤
- MALIC ACID緩衝剤
- Panthenol帯電防止剤、ヘアコンディショニング剤、整肌剤、保湿剤
- PENTAERYTHRITYL TETRA-DI-T-BUTYL HYDROXYHYDROCINNAMATE酸化防止剤
- Tocopherol酸化防止剤、香料、その他の整肌剤、閉塞性整肌剤
- Phenoxyethanol抗菌剤、防腐剤
- フレグランス香料
- HEXYL CINNAMAL賦香剤
- Limonene消臭剤、溶剤、賦香剤、香料アレルゲン
成分を並べて比較
- 水溶剤
- CETYL ALCOHOLエモリエント整肌剤、乳化用界面活性剤、乳化安定剤、起泡補助界面活性剤、香料、不透明化剤、洗浄用界面活性剤、粘度調整剤
- グリセリン変性剤、ヘアコンディショニング剤、保湿剤、口腔ケア剤、皮膚保護剤、溶剤、粘度調整剤、賦香剤、香料、保湿整肌剤
- STEARIC ACID洗浄剤、乳化用界面活性剤、乳化安定剤、香料、再脂肪化剤、洗浄用界面活性剤
- RICINUS COMMUNIS SEED オイル香料、整肌剤、賦香剤
- BEHENTRIMONIUM METHOSULFATE帯電防止剤、ヘアコンディショニング剤、洗浄用界面活性剤
- MANGIFERA INDICA SEED BUTTER整肌剤
- ORBIGNYA OLEIFERA SEED オイルエモリエント整肌剤
さらに 21 成分
- ASCORBYL PALMITATE酸化防止剤、香料
- SERICIN帯電防止剤、ヘアコンディショニング剤、整肌剤、平滑剤
- POLYQUATERNIUM-7帯電防止剤、皮膜形成剤
- BEHENTRIMONIUM CHLORIDE帯電防止剤、ヘアコンディショニング剤、防腐剤
- HYDROLYZED VEGETABLE PROTEIN帯電防止剤、ヘアコンディショニング剤、整肌剤
- POLYQUATERNIUM-59紫外線吸収剤
- Caprylyl Glycol消臭剤、エモリエント整肌剤、ヘアコンディショニング剤、整肌剤、防腐剤、保湿剤
- CETRIMONIUM CHLORIDE抗菌剤、帯電防止剤、乳化用界面活性剤、防腐剤
- GUAR HYDROXYPROPYLTRIMONIUM CHLORIDE帯電防止剤、皮膜形成剤、整肌剤、粘度調整剤
- CYAMOPSIS TETRAGONOLOBA GUM結合剤、乳化安定剤、皮膜形成剤、香料、粘度調整剤
- Butylene Glycol保湿剤、香料、整肌剤、溶剤、粘度調整剤
- Tocopherol酸化防止剤、香料、その他の整肌剤、閉塞性整肌剤
- Sodium Hydroxide緩衝剤、変性剤、pH調整剤
- TRISODIUM ETHYLENEDIAMINE DISUCCINATEキレート剤
- Potassium Sorbate香料、防腐剤
- Disodium EDTAキレート剤、粘度調整剤、キレート剤、安定剤
- Ethylhexylglycerin消臭剤、整肌剤、防腐剤
- Phenoxyethanol抗菌剤、防腐剤
- Citric Acid緩衝剤、キレート剤、香料、角質除去剤、有効成分、pH調整剤
- フレグランス香料
- LINALOOL消臭剤、賦香剤
成分の説明
水
溶剤 · 共通
Aqua(水)は、化粧品において最も一般的な成分の一つであり、主に溶媒として使用されます。水は他の成分を溶かし、製品のテクスチャーを調整する役割を果たします。また、製品の使用感を向上させるために不可欠な要素です。フォーミュレーターは、製品の一貫性や効果を高めるために、Aquaを配合することがあります。
グリセリン
変性剤、ヘアコンディショニング剤、保湿剤、口腔ケア剤、皮膚保護剤、溶剤、粘度調整剤、賦香剤、香料、保湿整肌剤 · 共通
グリセリン(Glycerin)は、保湿剤として広く使用される成分です。主に水分を引き寄せ、肌の水分保持を助けるヒューメクタントとしての機能を持っています。これにより、肌をしっとりと保ち、乾燥を防ぐ役割を果たします。製品のフォーミュレーターは、グリセリンを加えることで、使用感を向上させ、肌のバリア機能をサポートするためにこの成分を選ぶことが多いです。
BEHENTRIMONIUM CHLORIDE
帯電防止剤、ヘアコンディショニング剤、防腐剤 · 共通
BEHENTRIMONIUM CHLORIDEは、主に抗静電気作用、ヘアコンディショニング、保存料として機能する成分です。抗静電気作用は、髪の毛の静電気を抑えることで、髪がまとまりやすくなることに寄与します。また、ヘアコンディショニング機能は、髪の質感を改善し、滑らかさを与えるために役立ちます。保存料としては、製品の品質を保つために微生物の成長を抑制する役割があります。これらの機能は、化粧品フォーミュレーターが製品の性能を向上させるためにBEHENTRIMONIUM CHLORIDEを追加する理由となります。
CETRIMONIUM CHLORIDE
抗菌剤、帯電防止剤、乳化用界面活性剤、防腐剤 · 共通
CETRIMONIUM CHLORIDEは、抗菌性、帯電防止、界面活性剤-乳化剤、保存料としての機能を持つ成分です。この成分は、製品の安定性を向上させ、微生物の成長を抑制するために使用されることがあります。また、帯電防止効果により、髪の毛や肌の静電気を軽減することが期待されます。これらの機能は、化粧品の品質を保ち、使用感を向上させるために重要です。
Citric Acid
緩衝剤、キレート剤、香料、角質除去剤、有効成分、pH調整剤 · 共通
クエン酸(Citric Acid)は、主に果物に含まれる有機酸で、化粧品においては主に角質除去剤やpH調整剤として使用されます。クエン酸は、肌の表面の古い角質を取り除くことで、肌の滑らかさを向上させる効果が期待されます。また、製品のpHを調整する役割も果たし、他の成分の効果を最適化するために重要です。フォーミュレーターは、クエン酸を配合することで、製品の使用感や効果を向上させることができますが、使用に際しては、敏感肌の方には刺激を感じる可能性があるため注意が必要です。
Disodium EDTA
キレート剤、粘度調整剤、キレート剤、安定剤 · 共通
Disodium EDTAは、化粧品において主にキレート剤および安定剤として使用される成分です。この成分は、金属イオンと結合する能力があり、製品の品質を保つために重要です。特に、水中の金属イオンが製品の劣化を引き起こすのを防ぐために、Disodium EDTAは配合されることが多いです。また、製品の安定性を向上させることで、使用中のパフォーマンスを維持する役割も果たします。
Ethylhexylglycerin
消臭剤、整肌剤、防腐剤 · 共通
Ethylhexylglycerinは、主に化粧品において防腐剤として使用される成分です。この成分は、製品の保存性を向上させ、微生物の繁殖を抑える役割を果たします。フォーミュレーターは、製品の品質を保つためにEthylhexylglycerinを添加することがあります。また、この成分は保湿効果も持ち合わせており、肌に柔らかさを与えることが期待されます。
Tocopherol
酸化防止剤、香料、その他の整肌剤、閉塞性整肌剤 · 共通
トコフェロール(Tocopherol)は、ビタミンEとしても知られる成分で、主に抗酸化剤として機能します。この成分は、肌をフリーラジカルから保護し、酸化ストレスを軽減する役割を果たします。製品のフォーミュレーターは、トコフェロールを添加することで、製品の安定性を向上させ、肌の健康をサポートする目的で使用することがあります。