Hair+ Protein Bond 샴푸 대 Wella Elements Renewing 샴푸
포뮬러 구성
포뮬러 구성
주요 성분
주요 성분
장점
장점
주의점
주의점
성분 나란히 보기
- 정제수용제
- DISODIUM LAURETH SULFOSUCCINATE세정제, 기포제, 거품 증진 계면활성제, 하이드로트로프 계면활성제, 세정용 계면활성제
- Cocamidopropyl Betaine정전기 방지제, 세정제, 거품 증진 계면활성제, 헤어 컨디셔닝제, 세정용 계면활성제, 점도 조절제, 기타 피부 컨디셔닝제, 계면활성제
- POLYQUATERNIUM-7정전기 방지제, 피막 형성제
- POLYQUATERNIUM-10정전기 방지제, 피막 형성제
- SILK POWDER벌크제, 피부 컨디셔닝제
- HYDROLYZED SILK정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 보습제, 피부 컨디셔닝제
- MILK PROTEIN EXTRACT기능 미보고
성분 20개 더
- HYDROLYZED RICE PROTEIN정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 피부 컨디셔닝제
- HYDROLYZED SOY PROTEIN정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 보습제, 피부 컨디셔닝제
- HYDROLYZED ELASTIN에몰리언트 피부 컨디셔닝제, 헤어 컨디셔닝제, 피부 컨디셔닝제
- HYDROLYZED KERATIN정전기 방지제, 피막 형성제, 헤어 컨디셔닝제, 보습제, 피부 컨디셔닝제
- HYDROLYZED COLLAGEN정전기 방지제, 에몰리언트 피부 컨디셔닝제, 피막 형성제, 헤어 컨디셔닝제, 보습제, 피부 컨디셔닝제
- 알로에 VERA LEAF EXTRACT항산화제, 피부 보호제, 보습 피부 컨디셔닝제, 기타 피부 컨디셔닝제
- Panthenol정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 피부 컨디셔닝제, 보습제
- Citric Acid완충제, 킬레이트제, 향료, 각질 제거제, 활성 성분, pH 조절제
- ARGININE정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 향료, 피부 컨디셔닝제
- Betaine헤어 컨디셔닝제, 보습제, 보습 피부 컨디셔닝제
- SODIUM PCA정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 보습제, 피부 컨디셔닝제
- Disodium EDTA킬레이트제, 점도 조절제, 킬레이트제, 안정제
- DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE보습제, 피부 컨디셔닝제
- 살리실릭애씨드항지루제, 헤어 컨디셔닝제, 각질 용해제, 향료, 방부제, 피부 컨디셔닝제, 각질 제거제, 활성 성분
- 글라이콜릭애씨드완충제, 각질 제거제, 활성 성분
- SODIUM CHLORIDE벌크제, 향료, 구강 관리제, 점도 조절제
- Butylene Glycol보습제, 향료, 피부 컨디셔닝제, 용제, 점도 조절제
- Sodium Benzoate부식 방지제, 향료, 방부제
- 1,2-HEXANEDIOL피부 컨디셔닝제, 용제
- 프래그런스향료
성분 나란히 보기
- 정제수용제
- SODIUM LAUROYL METHYL ISETHIONATE세정제, 세정용 계면활성제
- 글리세린변성제, 헤어 컨디셔닝제, 보습제, 구강 관리제, 피부 보호제, 용제, 점도 조절제, 부향제, 향료, 보습 피부 컨디셔닝제
- Cocamidopropyl Betaine정전기 방지제, 세정제, 거품 증진 계면활성제, 헤어 컨디셔닝제, 세정용 계면활성제, 점도 조절제, 기타 피부 컨디셔닝제, 계면활성제
- DISODIUM COCOAMPHODIACETATE세정제, 거품 증진 계면활성제, 헤어 컨디셔닝제, 하이드로트로프 계면활성제, 피부 컨디셔닝제, 세정용 계면활성제
- Panthenol정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 피부 컨디셔닝제, 보습제
- 프래그런스향료
- Sodium Benzoate부식 방지제, 향료, 방부제
성분 14개 더
- Phenoxyethanol항균제, 방부제
- TRISODIUM ETHYLENEDIAMINE DISUCCINATE킬레이트제
- POLYQUATERNIUM-10정전기 방지제, 피막 형성제
- ACRYLATES / C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER유화 안정제, 피막 형성제, 점도 조절제
- 살리실릭애씨드항지루제, 헤어 컨디셔닝제, 각질 용해제, 향료, 방부제, 피부 컨디셔닝제, 각질 제거제, 활성 성분
- TOCOPHERYL ACETATE항산화제, 피부 컨디셔닝제
- POLYQUATERNIUM-7정전기 방지제, 피막 형성제
- 글라이콜릭애씨드완충제, 각질 제거제, 활성 성분
- ARGANIA SPINOSA KERNEL 오일에몰리언트 피부 컨디셔닝제, 피부 컨디셔닝제
- 알로에 BARBADENSIS LEAF JUICE피부 컨디셔닝제
- Sodium Hydroxide완충제, 변성제, pH 조절제
- Potassium Sorbate향료, 방부제
- Citric Acid완충제, 킬레이트제, 향료, 각질 제거제, 활성 성분, pH 조절제
- SODIUM SULFITE항산화제, 파마 또는 스트레이트제, 환원제
성분 설명
정제수
용제 · 공통
Aqua는 화장품에서 가장 기본적이고 중요한 성분 중 하나로, 일반적으로 물을 의미합니다. 이 성분은 주로 용매로 사용되어 다른 성분들이 용해되거나 혼합될 수 있도록 도와줍니다. Aqua는 제품의 질감을 조절하고, 사용 시 피부에 수분을 공급하는 역할을 할 수 있습니다. 화장품 포뮬레이터들은 Aqua를 추가하여 제품의 사용성을 높이고, 다른 활성 성분들이 효과적으로 작용할 수 있는 환경을 조성하기 위해 이 성분을 선택합니다.
Cocamidopropyl Betaine
정전기 방지제, 세정제, 거품 증진 계면활성제, 헤어 컨디셔닝제, 세정용 계면활성제, 점도 조절제, 기타 피부 컨디셔닝제, 계면활성제 · 공통
Cocamidopropyl Betaine은 'surfactant'로 분류되는 성분입니다. 이 성분은 표면 장력을 감소시키고, 혼합 및 분산을 촉진하는 데 유용합니다. 이러한 기능은 화장품 포뮬러에서 다른 성분들과의 상호작용을 개선하고, 제품의 전반적인 성능을 향상시키는 데 기여할 수 있습니다.
POLYQUATERNIUM-7
정전기 방지제, 피막 형성제 · 공통
POLYQUATERNIUM-7은 주로 항정전기 및 필름 형성 기능을 가진 성분입니다. 항정전기 기능은 정전기를 방지하여 모발이나 피부의 정전기적 문제를 줄이는 데 도움을 줄 수 있습니다. 필름 형성 기능은 피부나 모발 표면에 보호막을 형성하여 수분을 유지하고 외부 자극으로부터 보호하는 데 유용할 수 있습니다. 이러한 기능들은 화장품 포뮬러에서 중요한 역할을 하며, 제품의 사용감을 향상시키는 데 기여할 수 있습니다.
POLYQUATERNIUM-10
정전기 방지제, 피막 형성제 · 공통
POLYQUATERNIUM-10은 주로 항정전기 및 필름 형성 기능을 가진 성분입니다. 이 성분은 머리카락이나 피부에 얇은 보호막을 형성하여 수분을 유지하고 외부 자극으로부터 보호하는 데 도움을 줄 수 있습니다. 또한, 정전기를 방지하여 머리카락의 부스러짐을 줄이고 부드럽고 관리하기 쉽게 만들어줍니다. 이러한 특성 때문에 화장품 제조자들은 제품의 사용감을 개선하고, 더 나은 질감을 제공하기 위해 POLYQUATERNIUM-10을 추가할 수 있습니다.
Panthenol
정전기 방지제, 헤어 컨디셔닝제, 피부 컨디셔닝제, 보습제 · 공통
판테놀(Panthenol)은 일반적으로 프로비타민 B5로 알려져 있으며, 주로 보습제와 피부 컨디셔닝 성분으로 사용됩니다. 이 성분은 피부에 수분을 공급하고 유지하는 데 도움을 주며, 피부의 부드러움과 유연성을 향상시키는 데 기여합니다. 포뮬레이터들은 판테놀이 피부 장벽을 강화하고 자극을 완화하는 데 효과적이기 때문에 다양한 화장품에 추가하는 경우가 많습니다.
Citric Acid
완충제, 킬레이트제, 향료, 각질 제거제, 활성 성분, pH 조절제 · 공통
구연산(Citric Acid)은 주로 과일에서 발견되는 자연 유래 성분으로, 화장품에서 각질 제거제, pH 조절제 및 활성 성분으로 사용됩니다. 이 성분은 피부의 각질을 부드럽게 제거하고, 제품의 pH를 조절하여 안정성을 높이는 데 기여합니다. 포뮬레이터는 구연산을 추가하여 제품의 효과를 극대화하고, 피부의 질감을 개선하는 데 도움을 줄 수 있습니다. 그러나 일부 사용자에게는 자극을 유발할 수 있는 잠재적인 위험이 있으므로 주의가 필요합니다.
살리실릭애씨드
항지루제, 헤어 컨디셔닝제, 각질 용해제, 향료, 방부제, 피부 컨디셔닝제, 각질 제거제, 활성 성분 · 공통
살리실산(Salicylic Acid)은 주로 각질 제거제 및 활성 성분으로 사용되는 화합물입니다. 이 성분은 피부의 각질을 부드럽게 제거하고 모공을 청소하는 데 도움을 줄 수 있어, 여드름 및 지성 피부 관리에 자주 포함됩니다. 또한, 살리실산은 염증을 줄이고 피부 결을 개선하는 데 기여할 수 있습니다. 포뮬레이터들은 이 성분을 추가하여 피부의 건강한 외관을 유지하고, 모공이 막히는 것을 방지하기 위해 활용합니다. 그러나 잠재적인 자극성이 있을 수 있으므로 사용 시 주의가 필요합니다.
글라이콜릭애씨드
완충제, 각질 제거제, 활성 성분 · 공통
글리콜산(Glycolic Acid)은 주로 각질 제거제로 사용되는 성분으로, 피부의 표면에서 죽은 세포를 제거하여 더 매끄럽고 밝은 피부를 촉진하는 데 도움을 줍니다. 이 성분은 AHA(알파 하이드록시 산)의 일종으로, 피부의 수분을 증가시키고 피부 결을 개선하는 데 기여할 수 있습니다. 포뮬레이터들은 글리콜산을 추가하여 피부의 텍스처를 개선하고, 모공을 줄이며, 피부 톤을 균일하게 만드는 효과를 기대할 수 있습니다. 그러나 이 성분은 잠재적인 자극을 유발할 수 있으므로 사용 시 주의가 필요합니다.